Le déanaí, ag Fóram IC SEMICON Taiwan 2026, chuir an fathach liteagrafaíocht domhanda ASML faisnéis mhionsonraithe ar fáil ar na sonraí lárnacha is déanaí agus ar dhul chun cinn teicneolaíochta a mheaisíní liteagrafaíocht Ard-NA EUV (Cró Ard-Uimhriúil Ultraviolet) agus iad ag dul ar aghaidh i dtreo déantúsaíochta toirte ard (HVM).
Maidir le scála táirgeachta agus seachadadh trealaimh, d'fhógair ASML go bhfuil suiteálacha curtha i gcrích ag ceithre chustaiméir ar fud an domhain, agus 10 gcóras Ard-NA EUV ag feidhmiú go hiomlán anois. Tá trí chóras breise sa chéim loingseoireachta agus suiteála faoi láthair. Go dtí seo, tá breis agus 1.35 milliún sliseog nochta go carnach ag na meaisíní seo, rud a léiríonn aistriú na teicneolaíochta ó bhailíochtú turgnamhach go dtí feidhmchlár tionsclaíoch ar scála iomlán. Go háirithe, tá Intel chun tosaigh trí úsáid a bhaint as an teicneolaíocht seo chun próiseálaithe áirithe Core Ultra Series 3 (códainm Panther Lake) a tháirgeadh ar a nód próisis Intel 18A, agus í ar an gcéad chuideachta ar fud an domhain a ghnóthaigh lastais arda sliseanna loighce ag baint úsáide as Ard-NA EUV.
I dtéarmaí feidhmíochta agus cobhsaíochta trealaimh, tá tréchur de 135 sliseog in aghaidh na huaire (WPH) bainte amach ag samhail táirgeachta mais na chéad ghlúine, an EXE:5200B, le linn na tástála glactha, ag comhlíonadh na gcaighdeán HVM. Idir an dá linn, tá an ráta infhaighteachta cabhlaigh domhanda méadaithe go 84%. Réamh-mheasann ASML go sroichfidh an ráta seo 90% faoi dheireadh 2026, agus sprioc fadtéarmach de 93%. Trí thaithí cothabhála a ghiaráil óna ardán NXE reatha, tá ASML tar éis a chinntiú go gcomhlíonann feidhmíocht forleagan agus fócas na n-inneall dianriachtanais táirgeachta.
Maidir le buntáistí teicneolaíochta agus treochláir don todhchaí, i gcomparáid leis na córais 0.33 NA EUV roimhe seo, cuireann an Ard-0.55 NA-NA EUV réiteach níos fearr ar fáil. Cumasaíonn sé patrún aonair chun ilphatrúnóireacht a athsholáthar, rud a laghdaíonn go díreach rátaí lochtanna, amanna timthrialla táirgthe, agus costais fhoriomlána le haghaidh ardnóid. Ina theannta sin, osclaíonn an teicneolaíocht seo spásanna dearaidh nua do leagan amach sliseanna 2D, rud a d'fhéadfadh líon iomlán na sraitheanna idirnasctha miotail a laghdú. Ag féachaint amach romhainn, tá treochlár teicneolaíochta cobhsaí bunaithe ag ASML a mhair breis agus deich mbliana. Trí chumhacht foinse solais EUV a mhéadú (ó 600W go 1000W) agus próisis mheicniúla eile a bharrfheabhsú, tá sé mar aidhm ag an gcuideachta tréchur trealaimh a threisiú go 180 WPH faoi dheireadh na deich mbliana seo, ag leanúint de thacaíocht lárnach a sholáthar do mhonarú leathsheoltóra ón nód 2nm isteach sa ré Angstrom.
